O7 晶体学

O7 晶体学

  • up: O 数理科学和化学
  • down:
    • O71 几何晶体学
      • O711 晶体对称性
        • O711+.1 对称性理论
        • O711+.2 点群和有限图形的对称性
        • O711+.3 空间群和点阵图形的对称性
        • O711+.4 晶系、晶类
      • O712 点阵和倒易点阵
      • O713 晶体外形和晶体投影
        • O713+.1 测角技术与仪器
        • O713+.2 晶体投影
        • O713+.3 晶体外形规律
        • O713+.4 晶体外形数据
        • O713+.5 晶体习性
    • O72 X 射线晶体学
      • O721 晶体对X射线、电子和中子的衍射理论
      • O722 衍射实验及数据处理
        • O722+.1 劳厄法
        • O722+.2 周转法、回摆法及魏森伯法
        • O722+.3 倒易点阵直接照相法
        • O722+.4 粉末法
        • O722+.5 低角散射(小角散射)
        • O722+.6 漫散射
        • O722+.7 电子衍射与中子衍射
        • O722+.8 扩展X射线吸收精细结构(EXAFS)
      • O723 结构分析
        • O723+.1 粉末法中单胞的确定
        • O723+.2 空间群的测定
        • O723+.3 傅立叶综合法(帕特森投影及电子云分布法)及重原子法
        • O723+.4 周相问题
        • O723+.5 结构分析所用的模拟及计算工具
        • O723+.6 结构参数的准确测定
        • O723+.7 点阵常数的准确测定
    • O73 晶体物理
      • O731 晶体的物理性质
      • O732 晶体的各向异性
        • O732+.1 晶体的矢量和张量性质
      • O733 晶体的力学性质
        • O733+.1 点阵力学
        • O733+.2 弹性与滞弹性
        • O733+.3 范性形变
        • O733+.9 其他
      • O734 晶体的光学性质
        • O734+.1 电光、弹光、非线性光学效应
        • O734+.2 折射、反射
        • O734+.3 发光现象
      • O735 晶体的声学性质
      • O736 晶体的热学性质
      • O737 晶体的磁学性质
      • O738 晶体的电学性质
      • O739 晶体物理实验
    • O74 晶体化学
      • O741 晶体结构数据(结构报告)
        • O741+.1 金属和合金体系
        • O741+.2 矿物
        • O741+.3 无机物
        • O741+.4 硅酸盐
        • O741+.5 氧化物体系
        • O741+.6 有机物
      • O742 晶体化学的规律性
        • O742+.1 晶体中的化学键
        • O742+.2 原子半径、离子半径及极化率
        • O742+.3 密堆积和配位
        • O742+.4 同晶型和多晶型
        • O742+.5 化学组成和结构间的关系
        • O742+.6 水合物和结晶水
        • O742+.7 晶体中的氢键
        • O742+.8 有序、无序转变
        • O742+.9 结构与性能间的关系
      • O743 系统晶体化学
        • O743+.1 元素的晶体化学
        • O743+.2 金属和合金晶体化学
        • O743+.3 无机物晶体化学
        • O743+.4 硅酸盐晶体化学
        • O743+.5 有机物晶体化学
          • O743+.51 高聚物晶体化学
          • O743+.52 蛋白质、生化物质晶体化学
          • O743+.53 络合物、螯合物和元素有机物晶体化学
    • O75 非晶态和类晶态
      • O751 非晶态
      • O752 丝缕结构
      • O753 类晶态
        • O753+.1 微晶
        • O753+.2 液晶
        • O753+.3 准晶体
      • O754 无定形态和琉璃态
      • O756 非晶态和类晶态材料的应用
    • O76 晶体结构
      • O761 复相在晶体中的分布
      • O762 孪生晶体
      • O763 晶粒间界
      • O764 粒度分布
      • O765 晶体中的应力
      • O766 观察、分析晶体结构的实验方法
        • O766+.1 显微镜技术
        • O766+.2 光测弹性学
        • O766+.3 X射线方法
        • O766+.4 衍射方法
    • O77 晶体缺陷
      • O77+1 点缺陷、面缺陷、体缺陷
      • O77+2 位错
      • O77+3 色心
      • O77+4 高能辐射在晶体中的效应
      • O77+5 杂质
      • O77+9 其他缺陷
    • O78 晶体生长
      • O781 晶体生长理论
      • O782 晶体生长工艺
        • O782+.1 溶液法
        • O782+.2 高温超高压法
        • O782+.3 焰熔法(维尔纳叶法)
        • O782+.4 熔盐法(助熔剂法)
        • O782+.5 提拉法
        • O782+.6 浮区法
        • O782+.7 气相 - 固相反应
        • O782+.8 固相 - 固相反应、应变退火法
        • O782+.9 其他生长方法
      • O783 再结晶
      • O784 晶须
      • O785 单晶体的检验
        • O785+.1 单晶体的定向
        • O785+.2 锥光偏振仪技术
        • O785+.3 X 射线拓扑技术
        • O785+.4 电子自旋共振技术
        • O785+.5 电子探针分析技术
        • O785+.6 分光光度计技术
        • O785+.7 位错密度的测定
      • O786 晶体加工
      • O787 区域提纯(区熔提纯)
    • O79 晶体物理化学过程
      • O791 扩散
      • O792 相变
      • O793 表面现象和表面性能
      • O794 玻璃的晶化
      • O795 晶化过程的热力学与动力学
    • O799 应用晶体学
  • english:
    • Crystallography